VuFind

การปรับสิทธิภาพสูงสุดของโบรอนชนิดต่างๆ ในการยิงฝังประจุชนิด พี สำหรับใช้ในกระบวนการสร้าง มอสทรานซิสเตอร์ = Optimization of boron specirs in implantation p-type for MOS transistor fabrication

Main Author: นพพล พงษ์พันธุ์จันทรา
Other Authors: อาจารย์ที่ปรึกษา : สุวัฒน์ โสภิตพันธ์, มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีมหานคร, วิศวกรรมอิเล็กทรอนิกส์
Format: PROJECTS
Language: Thai
Published: 2547
Subjects: ใบรอนในการยิงฝังประจุ
Tags: Add
No Tags, Be the first to tag this record!
Login for hold and recall information
Place a Title Level Reserve

MUT Lib 2nd Floor

Call Number: ป อท 2547 004
Copy 1
Available

Search Options

Find More

Need Help?